Carbon carbon tetrafluoride cf 4 99.999}% là khí khắc plasma được sử dụng rộng rãi nhất trong ngành công nghiệp vi điện tử Làm sạch bề mặt thiết bị, sản xuất tế bào mặt trời, công nghệ laser, làm lạnh nhiệt độ thấp, cách điện khí, tác nhân phát hiện rò rỉ, kiểm soát thái độ của tên lửa không gian, chất tẩy rửa, chất bôi trơn và chất lỏng phanh trong sản xuất mạch in Các đặc điểm và xu hướng phát triển của các khí điện tử được sử dụng trong các mạch tích hợp cực kỳ lớn ngày nay là cực kỳ, siêu sạch, đa hóa và đa cơ thể . Tetrafluoride (CF4) đã chiếm giữ thị trường khí khắc với giá tương đối thấp, do đó, nó có tiềm năng phát triển rộng .
Chú phổ biến: carbon tetrafluoride điện tử CF 4 99.999%, carbon tetrafluoride CF cf 4 99.999%, nhà cung cấp, nhà sản xuất, nhà máy, nhà máy
