Carbon tetrafluoride cf4 là một nguồn fluorine và carbon florua tự do và tự do, được sử dụng trong các quá trình khắc wafer khác nhau . carbon tetrafluoride cf4 Các khu vực không được kiểm soát . Trong môi trường plasma tần số vô tuyến, các gốc tự do flo xuất hiện dưới dạng carbon trifluoride hoặc carbon Difluoride điển hình . Các biện pháp kiểm soát đặc biệt (như kiểm soát dị hướng bán dẫn) khi chúng gặp không khí hoặc oxy . khí có độ tinh khiết cao của nó và hỗn hợp của carbon tetrafluoride tinh khiết cao và oxy cation tinh khiết cao của silic Vật liệu .
Carbon tetrafluoride CF4 có tác dụng gây mê ở nồng độ cao . Khí tinh khiết cao của nó và hỗn hợp của nó với oxy có độ tinh khiết cao là các loại khắc plasma được sử dụng rộng rãi nhất Độ ổn định nhiệt, trơ vào nhiều thuốc thử và không thủy phân ở 1000 độ . nó không phản ứng với đồng, niken và vonfram ở nhiệt độ phòng .
Tetrafluoromethane (CF4) có độ ổn định cao và là khí hoàn toàn không thể tạo được . nó không phản ứng với axit, kiềm và chất oxy hóa ở nhiệt độ phòng, không phản ứng với các kim loại chuyển tiếp như Thuốc thử kim loại amoniac-natri ở nhiệt độ phòng và CF4 có thể phản ứng với kim loại kiềm, kim loại kiềm và SiO2 ở nhiệt độ cao để tạo ra fluoride tương ứng . CF4 Phản ứng trùng hợp CF4 ở nhiệt độ hồ quang carbon để tổng hợp các fluorocarbon khác .
Chú phổ biến: CF4, Nhà sản xuất, nhà cung cấp, nhà sản xuất CF4 Trung Quốc
